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第232章 美柚轰动全网,雷布斯的出路 (2 / 10)

而当下的1950i估计会便宜一些。

比如尼康的nsR-s620D和阿斯麦的1950i,性能差不了多少,多重曝光后也可以做10-28nm,甚至7nm。

使得中芯国际的28nm工艺大规模量产,能满足大多数芯片需求。

阿斯麦不但在DuV光刻机领域独领风骚,而且开始发力euV光刻机,进军7nm以下的制程。

不过老款的1950i运作一下,还是有希望的。

当然,不能只压阿斯麦,小日子那边也得看看。

可7nm制程,就要用nXT1980Di四重曝光,技术方面梁老都能解决,但良品率和成本就不好说了。

20台就是70亿!

为什么一次性进这么多?还不是怕做大了被锤!

果然,一台1950i光刻机要4000万欧元,5470万美元,也就是3.5亿人民币。

14nm需要三重曝光,凭借梁老的技术,良品率和成本也能保证。

哪怕溢价买,都不成问题!

幸好梁老能力突出,在多重曝光领域造诣颇深,硬是推出n+1、n+2工艺,用nXT1980Di这种落后的光刻机,实现了14nm、10nm,甚至7nm。

最初,台积电用nXT:1980Di来制造7nm芯片,效果很不理想,良品率低,成本高,最后还是换上euV光刻机,才实现了完美的7nm。

同样,要用nXT:1980Di来制造14nm、7nm的芯片,那就得靠多重曝光技术,对厂家的技术要求非常高,量产芯片的成本也很高。

巧妇难为无米之炊。

当然趁着当下风头不紧,抓紧多进一些!

这样后续产能扩大,都够用,一直用到2018年1980di都不再禁售。

进上十台,就是35亿。

而尼康还在苦苦坚持,高端领域没希望,可是中低端领域还是没问题的。

后续的nXT:1960Bi、1970ci、1980Di,不过是在nXT:1950i进行了部分升级,提高了良品率和精度,本质上相差不大。

为此,王逸拿出手机,开始查数据。

梁老的两重曝光技术,不但把中芯国际的28nm良品率从50%提到了90%以上,成本也不会增加太多。

原本光刻机三巨头阿斯麦,尼康,佳能。

不过

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